Как (не) сжечь транзистор: измеряем температуру правильно

При разработке или отладке электронных устройств для оценки надёжности работы бывает необходимо измерять температуру силовых компонентов, в частности, мощных полевых транзисторов. Удобнее всего делать это с помощью тепловизора, в последнее время они стали достаточно доступны по цене и позволяют с высокой точностью и разрешением измерять температуру поверхности, и легко находить наиболее нагретые участки. Но насколько такие измерения информативны и полезны? Надёжность работы полупроводников зависит от температуры кристалла (Tjunction), именно эта температура является определяющей для установления предельных режимов работы транзистора. Температура поверхности корпуса может зависеть не только от температуры кристалла, но и от конструкции транзистора в целом: размеров кристалла, толщины материала над ним, расположения и количества проволочных выводов и т.д. Все эти параметры у разных моделей транзисторов могут значительно отличаться.
Можно ли по температуре корпуса достоверно рассчитать температуру кристалла и оценить тепловой режим транзистора, и если да, то как именно это сделать? Попытаемся разобраться в этих вопросах.
Для относительно маломощных транзисторов в корпусах типа SOP-8, LFPAK и подобных не раз встречал информацию, что максимальная температура поверхности корпуса примерно равна температуре кристалла Tj. Например, в аппноте Vishay Siliconix приведена вот такая табличка:

Здесь показаны соотношения между температурами поверхности и кристалла для разных транзисторов, полученные с помощью усреднения результатов симуляции для различных мощностей. Как видно, у небольших корпусов коэффициент близок к единице, с увеличением размеров корпуса разница температур также растёт.
Выглядит очевидным, что для более мощных транзисторов в корпусах типа TO-220, TO-247, TO-264 разница должна быть ещё больше, но какой-то конкретной информации мне найти не удалось. Поэтому было решено провести небольшое исследование и попытаться самостоятельно выяснить, насколько температура корпуса над кристаллом транзистора может отличаться от используемых для расчётов температур Tcase и Tjunction.
Методика, на первый взгляд, несложная: подаём на разные транзисторы некоторую стабильную мощность, измеряем температуры поверхности и кристалла и анализируем полученные значения. Но как измерить температуру кристалла? Чаще всего её получают косвенным способом, по изменению электрических параметров при нагреве, в частности, у мосфетов — по изменению падения на паразитном диоде. Подробнее такой метод описан, например, здесь; один источник тока используется для разогрева транзистора заданной мощностью, второй, маломощный — для измерения падения:

Однако, при большой рассеиваемой мощности реализовать такой способ в домашних условиях довольно сложно. Но можно поступить проще — если высокая точность не важна, температуру кристалла можно рассчитать из температуры основания Tcase и теплового сопротивления кристалл-корпус, по формуле Tj=(P * Rth(j-c)) + Tcase.
Тепловое сопротивление Rth(j-c) всегда указано в характеристиках транзистора; стоит отметить, что обычно приводится максимальное (наихудшее) значение Rth(j-c), поэтому реальная температура кристалла может быть ниже расчётной.
Под Tcase подразумевается обычно температура на поверхности медного основания транзистора прямо под кристаллом, в зоне основного теплового потока. Иллюстрация от Toshiba:

Измерить Tcase можно контактным способом, например с помощью термопары. Для этого нам потребуется специально обученный радиатор.
Возьмем обычный радиатор от старого процессора (размеры 83х69х34 мм, толщина основания в средней части 11 мм):

В центре, на расстоянии 7,5 мм от крепёжного сверлим ещё одно, сквозное отверстие диаметром 1.8 мм, в верхней части рассверливаем его до 2,4 мм.

В отверстие с помощью разрезной втулки крепится термопара, высота втулки подобрана такой, чтобы спай чуть выступал над поверхностью радиатора. В качестве втулки подошла пластиковая цанга от механического карандаша. Таким образом, при установке транзистора термопара плотно прижимается к его основанию непосредственно под кристаллом, а втулка за счёт высокого теплового сопротивления пластика изолирует её от радиатора. Нагляднее способ крепления показан на схеме:

Еще одну термопару для контроля температуры радиатора закрепил в глухом отверстии рядом c местом установки транзистора. Также, для корректного измерения тепловизором, наклеил на поверхность полоску полиимидного скотча. Слегка отшлифовал поверхность радиатора в зоне прилегания транзистора, чтобы сгладить следы от заводской фрезеровки.

Термопары применены самые обычные, тип «К» (хромель-алюмель):

Для измерения температуры поверхности будет использоваться тепловизор Mileseey TR256i (разрешение 256х192) с макролинзой из селенида цинка с фокусным расстоянием 50,8 мм.
Предварительно проверил показания измерительных приборов по «эталону температуры» — кипящему чайнику. Снимок стенки чайника с наклеенным кусочком термоскотча:

Мультиметр UT171B с подключенной термопарой в кипящей воде показывает 98,0°-98,1°. При комнатной температуре показания также занижены на 1,5-2°, поэтому для измеренных значений с термопары введём поправку в 2°С.
Для охлаждения на радиаторе установил вентилятор типоразмера 60х60х25, модель YDM6025C12F (ссылка). Заявленная производительность 25 CFM, при номинальных 5000 об/мин. К слову, за свою цену в 100 р. отличный вентилятор, неплохо дует, нешумный и даже балансировка есть.

Чтобы замеры были корректными, мощность, рассеиваемая транзистором, должна быть стабильной. Для этого транзистор подключается к схеме источника стабильного тока на ОУ, с заданным током 5 ампер. Падение напряжения сток-исток контролируется вольтметром непосредственно на выводах транзистора, таким образом, изменяя подаваемое на схему напряжение, можно задавать необходимое значение мощности:

Общий вид всей конструкции в сборе:

Тепловизор закреплен напротив транзистора, чтобы возможные изменения расстояния и ракурса не влияли на измерения.

Ход эксперимента: транзистор с нанесенной термопастой GD900 устанавливаем на радиатор и подключаем к схеме, нагружаем транзистор заданной мощностью, после достижения теплового равновесия записываем измеренные значения температур. Далее повышаем мощность до следующего шага, и повторяем до достижения предельной для транзистора мощности или температуры. Время каждого шага 5 минут (хотя температуры практически перестают расти уже через 3 минуты).
В качестве первого подопытного возьмём IRFP250, такие транзисторы имеют довольно типичные показатели по мощности для мосфетов в корпусе TO-247, а кроме того, их нередко применяют для работы в линейном режиме.

Краткие характеристики из даташита:
Vdss 200 V
Id 30 A
Rds(on) 85 mΩ
Pmax 190 W
Linear derating factor 1,5 W/°C
Rth(j-c) 0,65°C/W
Tj_max 150°C
Важные для нашего теста показатели:
Максимальная рассеиваемая мощность Pmax=190 W (при температуре корпуса Tc=25°, для других температур макс. мощность рассчитывается с учётом коэффициента Linear derating factor 1,5 W/°C)
Тепловое сопротивление кристалл-корпус Rth(j-c) 0,65°C/W
Максимальная температура кристалла Tj_max 150°C
Результаты замеров представлены в таблице и на графиках:

Примечания к измеренным значениям:
Тс — показания с термопары под основанием транзистора, с поправкой +2°,
Ths — максимальная температура участка поверхности радиатора рядом с корпусом транзистора, измерена тепловизором,
Ths2 — показания с термопары внутри радиатора,
Ttop — максимальная температура поверхности транзистора, измерена тепловизором,
Tj — расчётная температура кристалла транзистора, получена по формуле Tj=(P x Rth(j-c)) + Tc.
Как и ожидалось, зависимость от мощности для всех измеренных температур очень близка к линейной, а расчётная температура кристалла даже при небольшой мощности сильно отличается от температуры на поверхности.
Термофото при рассеиваемой мощности 120 ватт:

IRFP250N
Это более современный аналог транзистора IRFP250. Для проверки повторяемости измерений протестировал два таких транзистора.

Vdss 200 V
Id 30 A
Rds(on) 75 mΩ
Pmax 214 W
Linear derating factor 1,4 W/°C
Rth(j-c) 0,7°C/W
Tj_max 175°C
Результаты первого экземпляра:

И второго:

У IRFP250N максимальная температура поверхности заметно выше, чем у IRFP250. Отличия между двумя одинаковыми транзисторами минимальные.
IRFP460A
Vdss 500 V
Id 20 A
Rds(on) 0.27 Ω
Pmax 280 W
Linear derating factor 2,2 W/°C
Rth(j-c) 0,45°C/W
Tj_max 150°C
Этот транзистор не новый, был выпаян из блока питания, в котором проработал больше 10 лет. Судя по низкому значению Rth(j-c), кристалл здесь заметно больше, чем у предыдущих.


Нагрев корпуса при мощности 140 ватт:

FQA9N90C
Высоковольтный транзистор в корпусе TO-3P (аналог TO-247, но площадь медного основания чуть больше).

Vdss 900 V
Id 8.6 A
Rds(on) 1.3 Ω
Pmax 240 W
Linear derating factor 1,92 W/°C
Rth(j-c) 0,52°C/W
Tj_max 150°C
Сопротивление открытого транзистора Rds(on) слишком велико, чтобы получить 20 ватт при токе 5 А; перенастраивать ток мне было лень, поэтому ступень 20 ватт пропущена.

MSG40T65FL
Ну и для разнообразия проверим мощный IGBT от китайского производителя Maspower.

Vdss 650 V
Id 40 A
Pmax 375 W
Linear derating factor 2,5 W/°C
Rth(j-c) 0,4°C/W
Tj_max 175°C
У такого транзистора на общем медном основании размещены два отдельных кристалла — собственно транзистор и антипараллельный диод, из-за этого кристалл транзистора немного смещён относительно центра. На анимации хорошо виден нагрев разных участков корпуса при смене полярности протекающего тока:

Для компенсации такой особенности пришлось немного повернуть транзистор на радиаторе, иначе температура измерялась бы не в точке под кристаллом, а рядом с ней.


При мощности 160 ватт температура основания оказалась немного выше ожидаемой, на графике это хорошо видно. С чем связано такое отклонение — неясно, спишем на случайную ошибку измерений.
Распределение температур на поверхности при 160 Вт. выглядит так:

Сравнение температур всех транзисторов при мощности 100 ватт:

Как видно, даже при одинаковой мощности максимальные температуры корпуса различаются больше чем на 20°.
На следующей диаграмме показано изменение разницы между температурами кристалла и корпуса в зависимости от мощности:

Даже на такой скромной выборке видно, что разброс значений между разными транзисторами достаточно большой. Что интересно, наибольшее различие (если не считать IGBT) у близких по характеристикам мосфетов — IRFP250 и IRFP250N.
А вот разброс разности температур между основанием Tc и радиатором Ths для всех транзисторов намного меньше, менее 5° для мосфетов:

Кроме ТО-247, протестировал и несколько транзисторов в корпусе TO-220:
IRLZ44N

Vdss 55 V
Id 41 A
Rds(on) 22 mΩ
Pmax 83 W
Linear derating factor 1,8 W/°C
Rth(j-c) 0,56°C/W
Tj_max 175°C

IRL2203N

Vdss 30 V
Id 116 A
Rds(on) 7 mΩ
Pmax 170 W
Linear derating factor 3,8 W/°C
Rth(j-c) 0,9°C/W
Tj_max 175°C

IRFB4115

Vdss 150 V
Id 104 A
Rds(on) 9.3 mΩ
Pmax 380 W
Linear derating factor 2.5 W/°C
Rth(j-c) 0,4°C/W
Tj_max 175°C
У IRFB4115 достаточная большая площадь кристалла, на это косвенно указывает и низкое тепловое сопротивление, и большая ёмкость затвора. Как следствие, температуры поверхности и кристалла практически совпадают.

С этим транзистором я допустил глупую ошибку — не обратил внимание на график области безопасной работы, в результате при попытке поднять мощность до 120 ватт транзистор вышел из строя, уйдя в КЗ.
Да, несмотря на внушительную максимальную мощность в 380 Вт, в линейном режиме при токе 5 А мощность не должна превышать ~65 ватт, а при напряжении 25 В — всего 25 ватт:

Многие полевые транзисторы способны работать в линейном режиме только с серьезными ограничениями по мощности, из-за температурной нестабильности и склонности к тепловому разгону. Отдельные участки кристалла могут нагреваться сильнее остальных, это приводит к росту тока в ячейках этой области и дальнейшему повышению температуры. В результате почти вся мощность может рассеиваться на небольшом участке кристалла, что приводит к локальному перегреву и отказу транзистора. Именно это и произошло в данном случае.
Не будьте такими как автор, читайте документацию внимательно ;)
Ну а потерпевший отправляется на распаковку:

Кристалл действительно огромный и занимает почти всё доступное место на медной подложке. В центре видно небольшое круглое пятно, похожее на кратер, это и есть зона термического разрушения в кремниевой структуре. Постоянно жалею, что у меня нет микроскопа:

Больше подобных фоток можно увидеть в этом документе от NXP => AN11243 — Failure signature of electrical overstress on MOSFETs.
Ну и напоследок пара транзисторов в изолированном корпусе TO-220F. Даже тонкий слой пластика под основанием сильно ухудшает отвод тепла, поэтому допустимая мощность для таких транзисторов значительно меньше.
WML26N60C4

Vdss 600 V
Id 20 A
Rds(on) 0.16 Ω
Pmax 34 W
Linear derating factor 0.27 W/°C
Rth(j-c) 3.7°C/W
Tj_max 150°C

2SK2232

Vdss 60 V
Id 25 A
Rds(on) 36 mΩ
Pmax 35 W
Rth(j-c) 3,57°C/W
Tj_max 150°C

Оба мосфета в TO-220F показали близкие результаты.
Все транзисторы в ТО-220 при одинаковой мощности 20 ватт:

Ну и сводная диаграмма разницы между температурами кристалла и корпуса, здесь у ТО-220 по сравнению с ТО-247 разброс еще больше; особенно выделяются IRLZ44N и IRFB4115: если у 4115 эти температуры практически одинаковы, то у IRLZ44N при мощности 60 ватт кристалл горячее поверхности на 80° С.

Как и у TO-247, разница температур радиатор/основание и её разброс у разных моделей невелики:

Расчётные значения температуры поверхности Ttop при максимально допустимой температуре кристалла Tj, для всех протестированных транзисторов:

Заключение.
Полученные данные каждый может проанализировать самостоятельно; для себя же я сделал следующие выводы:
Для условий, когда рассеиваемая мощность достаточно велика, а транзистор эффективно охлаждается, измерение максимальной температуры поверхности корпуса неинформативно. Из-за конструктивных отличий у разных моделей транзисторов их корпуса могут нагреваться по-разному; температура 100°С на поверхности может быть абсолютно нормальным режимом работы в одном случае и признаком значительного перегрева в другом.
В то же время, температура радиатора в непосредственной близости от транзистора (Ths) может быть использована для определения температуры основания Tc; у разных моделей соотношение этих двух температур отличается не так сильно.
Для транзистора, установленного на достаточно массивном алюминиевом радиаторе без изолирующих прокладок, температуру Tc можно приблизительно определить по формуле Tc = Ths * K.
Коэффициент K зависит от мощности; его среднее значение для мосфетов в корпусе TO-247 составило K=1,22; для мосфетов в корпусе TO-220 K=1,23.
Нужно отметить, что всё вышесказанное актуально только для линейного режима; работа в ключевом режиме на высокой частоте требует отдельного моделирования тепловых процессов, и средняя температура корпуса или кристалла здесь непоказательна.
На этом у меня всё, спасибо тем, кому хватило терпения дочитать до этого места ;) Замечания, дополнения, вопросы и другую полезную информацию типа «что за бред, лучше бы Fnirsi обозревал!» пишите в комментариях!
1. Vishay AN834 — Estimating Junction Temperature by Top Surface Temperature in Power MOSFETs
2. Vishay AN819 - MOSFET Thermal Characterization in the Application
3. Methods of Measurement of Die Temperature of Semiconductor Elements: A Review
4. Infineon AN2017-01 — TO-247PLUS. Description of the packages and assembly guidelines
5. Nexperia — Power MOSFET frequently asked questions and answers
6. Nexperia AN90003 — LFPAK MOSFET thermal design guide
7. Nexperia AN11172 — Mounting instructions for SOT78 (TO-220AB); SOT186A (TO-220F)
8. Nexperia AN11243 — Failure signature of electrical overstress on MOSFETs
9. Nexperia AN50006 — Power MOSFETs in linear mode
10. ST Microelectronics AN4783 — Thermal effects and junction temperature evaluation of Power MOSFETs
11. Qorvo Application Note: Understanding Thermal Analysis of RF Devices
12. Philips Semiconductors — Power Semiconductor Applications — Chapter 7: Thermal Management
13. Toshiba — Calculating the Temperature of Discrete Semiconductor Devices
14. Toshiba — Hints and Tips for Thermal Design for Discrete Semiconductor Devices
15. Toshiba — Hints and Tips for Thermal Design for Discrete Semiconductor Devices ̶ Part 2
16. Toshiba — Power MOSFET Thermal Design and Attachment of a Thermal Fin
+62 |
3063
107
|
+76 |
3254
145
|
+124 |
4339
122
|
Моргните дважды, если да))
Эпистемофобия/Гнозиофобия
Проявления: Боязнь получать новые знания, испытывать неприязнь к новой информации.
Причины: Часто связано с особыми психологическими особенностями, склонностью к изоляции, что характерно для некоторых подростков и индивидуумов.
Технофобия
Проявления: Неприязнь или страх перед передовыми технологиями, сложными электронными устройствами и вообще техническим прогрессом.
Причины: Конфликт новых технологий с личными убеждениями, идеологией или ценностями человека.
Это работа для стоматолога. ))
А за статью респект+, неоднократно возникали мысли, какова же разница температур между кристаллом, корпусом транзистора и радиатором. Из какой-то старой литературы запомнились значения приблизительно в 20-30 градусов разница между корпусом и кристаллом, но лет 40 назад транзисторы в больших корпусах использовались практически повсеместно, а сейчас же очень часто используется корпусировка под SMD, у которой разница температур будет ощутимо больше из-за меньших размеров.
Любые попытки измерить именно температуру кристалла упрутся в эффект наблюдателя, поэтому не сильно лучше измерений внешней температуры.
Я-то тут каким боком? Я не несу пургу. В отличии от Вас.
UPD. На 5 мОм и 5 А токе можно даже LM358 заставить работать… Юзать имбовейшую ts922ai на 50 мОм шунт я считаю преступлением XD
Я разрядно-нагрузочный для лиионок на токи 0.1...10А делал на 5 мОм шунтах не используя внешний ОУ, только встроенный дифф. ОУ в lgt8f328p (такой себе челендж устроил), а он там сииильно хуже даже LM358… но да, пришлось попотеть с оптимизациями. С ts922ai думаю без проблем можно держать нагрузку в единицы миллиампер на 1 мОм шунте )))
Он не содержит полезной информации от слова совсем. Увы.
Раньше вроде такого не было. Или я не обращал внимание?
И как тогда с переносом тепла от кристалла?
Пока вижу, что IRFP250, если он «всамделишный», в линейном режиме на 5А и ~20В должен жить долго и счастливо, если конечно, правильно понял практическую часть.
(Это я про )
Формально, для IRFP250 работа в линейном режиме в даташите не нормируется, поэтому он имеет полное право сгореть ;) Но на практике да, обычно нормально работают, если охлаждение хорошее.
Это заблуждение — «прижимается» только точка касания, а она намного меньше шарика спая, а вся остальная его поверхность контактирует с воздухом, что не так, чтоб хорошо.
1. Это не придирка, но она, термопара, в целях Вашего опыта, излишня.
2. «Кроме ТО-247, протестировал и… TO-220» — «сводная диаграмма… ТО-220 по сравнению с ТО-247» — а в этом случае ещё и не показательна т. к. расстояние от неё до кристаллов разное (а это алюминий).
Это тоже слегка некорректно — кипит вода, а не стенка чайника, и 100°С (при давлении 760мм.рт.ст.) будет не в объёме, а у самой поверхности воды. Это как-бы мелочи, но, раз уж Вы «заморочились» этим
то, учитывайте уж всё, по-полной.
«участка поверхности радиатора рядом с корпусом транзистора» — это как-то расплывчато — как, в случае не одного и того-же расстояния от, скажем, центра кристалла, их сопоставлять?
Я как-то задался таким же вопросом про светодиоды.
Точнее, сначала я конечно ткнул термопарой в люминофор отчего тот обуглился. А вот потом я уже озадачился вопросом.
Трактат написать я не осилю, если коротко, то и на радиаторе и на люминофоре замерять конечно не корректно. Тепловизором на кристалл смотреть тоже плохо. Чуть лучше – на аноде или катоде. Хорошо – теплоотводной площадке если есть. А правильно – на специальной предусмотренной точке где бы она ни была.
У производителей верхней лиги типа Осрама для каждой серии помечено в даташите куда подлезать. У средней лиги хоть какая-нибудь методика обычно описано в даташите. У безымянных китайцев – ну катод, что остаётся.
У моего светодиода была отдельная точка на медной подложке, все температуры в даташите были описаны для неё и замерять правильно было там, я уточнял у производителя.
Температуры в других же местах были то сильно оптимистичными, то закритическими, хоть чип и работал стабильно.